Sur le poste de lithographie, le profil thermique pendant le traitement du photorésiste est l’un de ces paramètres avec lesquels on ne peut pas négocier. Si la température pendant le séchage doux varie, l’évaporation des solvants se produit de manière incohérente. Un point chaud pendant le séchage intensif entraîne une déformation des dimensions critiques du photorésiste. Cela a un impact négatif sur le rendement et sur le temps de durcissement du photorésiste. Nous avons conçu nos lampes de séchage pour maintenir ce profil thermique constant, tout au long du processus, depuis le séchage doux jusqu’au séchage intensif.
Ce qui est important en réalité Nous associons des émetteurs halogènes ou infrarouges à des optiques en quartz, ainsi qu’à un système de contrôle en boucle fermée, afin de maintenir une uniformité à niveau de wafer de ±0,1°C. Le résultat est des profils de séchage répétables, ce qui permet de maintenir une épaisseur constante du photorésiste et des dimensions critiques, lot après lot. La compatibilité avec les salles propres de classe 1–100 est intégrée dans la conception : des matériaux à faible émission de gaz et un flux d’air bien contrôlé empêchent toute contamination du processus.
Zéro génération de particules n’est pas juste une promesse commerciale : cela dépend de l’intégrité des filtres et du flux d’air dans la chambre, ce qui permet de maintenir un niveau de particules constant, même en fonctionnement continu 24/7.
C’est pourquoi cette solution fonctionne bien en production. Vous voulez un fonctionnement continu, sans ajustements constants. Ces lampes assurent une performance stable pendant plus de 5 000 heures, avec une variation minimale de la température. Ainsi, les temps d’arrêt imprévus diminuent et les temps de traitement sont réduits. Des émetteurs efficaces et une réponse thermique rapide permettent de réduire la consommation d’énergie sans compromettre la précision du séchage.
Que vous utilisiez le séchage doux pour ajuster la viscosité du photorésiste avant l’exposition, ou le séchage intensif pour fixer le motif avant l’etching, c’est toujours la même plateforme de lampe qui permet de reproduire fidèlement le profil de séchage, quel que soit le wafer ou l’équipement utilisé.
Quelques conseils pratiques L’installation dépend de l’équipement spécifique. Il faut adapter la lampe à la taille de la chambre, aux interfaces de connexion et au système de contrôle thermique. Il suffit donc de suivre une liste de vérification courte avec l’équipe chargée de l’équipement. La lampe fonctionne最佳 lorsque la réflexivité de la chambre et son système de refroidissement respectent les spécifications ; sinon, l’uniformité du traitement en souffre.
Nous fournissons dès le début tous les détails concernant les interfaces et les procédures d’installation, afin que le premier lot puisse être qualifié sans avoir besoin de retraites.