ファブ内での二酸化炭素削減：なぜUHP赤外線ランプが効果的なのか 正直言って、半製品段階で炭素中立を実現するのは非常に難しい。問題は主に加熱の過程にある。もし依然として従来の抵抗式炉を使っているのであれば、わずかなウェーハを温めるために部屋全体を温める必要があり、これは莫大なエネルギーの無駄遣いに他ならない。 そこで役立つのが、超高純度のUHP赤外線ランプだ。このランプは、見える範囲全体を温めるのではなく、必要な場所、つまりウェーハのみを正確に加熱する。これにより、ハードウェアと戦うことなく、製品そのものに焦点を当てることができる。
UHP赤外線ランプの仕組み
「超高純度」という言葉を使う際、それは単なるキャッチフレーズではない。金属イオンが工程に混入するのを防ぐために、合成石英が使用されている。半導体業界においては、一つの不純物イオンでも全てを台無しにしてしまう可能性がある。だから、これは許されない。 また、短波長の赤外線放射を利用している。なぜかというと、長波長の場合よりもはるかに速く基板を加熱できるからだ。数分ではなく、数秒で目標温度に到達する。 ただし、小さなスペースでそんな高温を得るためには、薄い石英ケースを通して大量の電力を供給しなければならない。これにより、ランプの端に大きな負荷がかかる。冷却空気の調整が適切でなければ、フィラメントがすぐに壊れてしまう。これは微妙なバランスが求められる。
お客様の工場での活用方法
アップグレードのために既存の設備を全部取り替える必要はない。このランプは、そのまま交換可能に設計されている。標準的なコネクタを使用しているので、週末を費やしてラック全体の配線を変更する必要はない。 本当に良い点は、エネルギー消費量が大幅に減少することだ。対流式加熱から目的別の赤外線加熱に切り替えることで、「無駄な」エネルギーの消費を抑えることができる。 環境保護とは、電力の供給源だけでなく、既に持っているエネルギーを無駄にしないことも意味する。赤外線ランプを使えば、ウェーハの特定の部分だけを加熱できるので、炉全体を最大出力で動かす必要はない。これにより、1枚のウェーハあたりのエネルギー消費量が削減され、工程段階での炭素排出量を最速で減らすことができる。