Trong quy trình sản xuất wafer, việc nung ấm mềm và nung ấm cứng không chỉ là những bước xử lý nhiệt thông thường mà còn là yếu tố quan trọng để kiểm soát độ chính xác kích thước của các chi tiết trên wafer và mật độ các khuyết tật. Chỉ cần có sự thay đổi nhỏ về nhiệt độ khoảng nửa độ C thôi cũng có thể ảnh hưởng đến các thông số kỹ thuật quan trọng của wafer. Ngoài chi phí mua thiết bị sưởi bằng tia hồng ngoại ra, người dùng còn phải trả giá bằng tỷ lệ sản phẩm đạt chuẩn, thời gian hoạt động ổn định của thiết bị, cùng khả năng tái tạo sản phẩm một cách đồng đều.
Chúng tôi thiết kế các thiết bị sưởi bằng tia hồng ngoại dựa trên nguồn ánh sáng tia hồng ngoại ngắn sóng, giúp truyền năng lượng trực tiếp vào silicon và các lớp phim mỏng. Tiêu chí quan trọng cần đạt được là độ đồng đều về nhiệt độ ở mức ±0,1°C trong toàn bộ khu vực nung ấm. Điều này được thực hiện nhờ hệ thống điều khiển đa khu vực và cấu trúc không sử dụng thạch anh, giúp thiết bị hoạt động tốt trong môi trường sạch. Bạn có thể vận hành thiết bị trong môi trường có độ sạch từ Class 1–100, đồng thời giữ mức số lượng hạt bụi dưới mức vài hạt trên mỗi feet khối. Khả năng tái tạo sản phẩm vẫn ổn định dù thay đổi liên tục về loại wafer, thời gian vận hành, hay tuổi thọ của thiết bị.
Trong quy trình in ấn, việc nung ấm mềm ổn định giúp kiểm soát độ nhớt của chất lỏng và tốc độ bay hơi của chúng; còn việc nung ấm cứng ổn định giúp đảm bảo độ bám dính và độ chính xác của các lớp phủ trên wafer. Thiết bị của chúng tôi giúp duy trì nhiệt độ ở mức chính xác theo yêu cầu của quy trình sản xuất, từ đó giúp giảm thiểu việc phải làm lại sản phẩm, nung lại wafer, và lãng phí nguyên liệu. Bạn sẽ có được thời gian vận hành ổn định, mức năng lượng tiêu thụ thấp nhờ khả năng kết nối hiệu quả, và tuổi thọ của thiết bị kéo dài hơn, giúp bạn không cần thay thế thiết bị thường xuyên. Độ ổn định của quy trình nung ấm giúp giảm thiểu những sai số và mang lại hiệu suất cao hơn.
Điều cần lưu ý khi lắp đặt thiết bị là phải đảm bảo tính tương thích với cấu trúc buồng sản xuất, hệ thống cấp nguồn, cũng như các yêu cầu về kiểm soát nhiễu điện từ và nhiệt độ. Thiết bị này có khả năng tăng nhiệt độ nhanh, vì vậy cần phải đảm bảo rằng các bộ phận cấu thành thiết bị được sắp xếp hợp lý để tránh tình trạng nóng quá mức ở một số vị trí nhất định. Thời gian cần thiết để thiết bị đạt đến nhiệt độ mong muốn khá ngắn, và việc kiểm soát nhiệt độ cũng cần được thực hiện chặt chẽ. Hãy lên kế hoạch calibrat thiết bị định kỳ để đảm bảo độ đồng đều về nhiệt độ ở mức ±0,1°C trong hàng nghìn giờ vận hành.