Polyimid Bäckofen Infrarotlampe

Wed, 01 Jul 2026 12:20:00 +0800

Im Bereich der Lithografie ist die Trocknung des Polyimids entscheidend für die Genauigkeit der Abmessungen der feinen Metalllinien. Eine Temperaturänderung von 5°C auf der Waferoberfläche kann dazu führen, dass die kritischen Abmessungen um Nanometer verändert werden – das reicht aus, um die Formation der Linien zu stören. Wir haben daher Infrarotlampen entwickelt, die diese Schwankungen ausgleichen.

Was technisch wichtig ist:
Wir verwenden Kurzwellen-Infrarotstrahler, die auf die Absorption durch Polyimid abgestimmt sind. Die thermische Reaktion erfolgt schnell – innerhalb von Sekundenbruchteilen – und wir halten die Homogenität der Waferoberfläche bei ±0,1°C. Der Lampenkörper ist für Reinräume der Klassen 1–100 geeignet; er besteht aus Materialien mit geringer Gasemission und ist so konstruiert, dass keine Partikel entstehen können. Dadurch bleibt die Anzahl der Defekte niedrig.

Fotoresist Backlichtlampe

Fri, 26 Jun 2026 04:39:39 +0800

Im Bereich der Lithografie ist das thermische Profil während des Verarbeitungsvorgangs des Fotolacks etwas, mit dem man einfach nicht verhandeln kann. Wenn es zu Schwankungen bei der Weichbäckung kommt, verläuft die Verdunstung des Lösungsmittels nicht wie gewünscht. Bei einer Hitzestelle während der Hartbäckung verformen sich die kritischen Abmessungen des Fotolacks. Beides beeinträchtigt sowohl die Ausbeute als auch die Bearbeitungszeit. Wir haben unsere Lampen so konstruiert, dass dieses thermische Profil von der Weichbäckung bis zur Hartbäckung über die gesamte Waferfläche hinweg konstant bleibt.

Backen on Infrared Heat Limited

Polyimid Bäckofen Infrarotlampe

Fotoresist Backlichtlampe