Heizgerät für Chemikalienkabinett

Mon, 22 Jun 2026 23:14:58 +0800

In der Fertigungshalle ist das Erhitzen des Fotoresists keine Option – es handelt sich dabei um eine notwendige Voraussetzung. Eine Abweichung von ±0,5 °C kann dazu führen, dass die kritischen Abmessungen verändert werden. Schon ein einziger Staubkorn kann dazu führen, dass eine Wafer zerstört wird. Der Heizer im chemischen Schrank muss die Temperatur der Reagenzien konstant und reproduzierbar halten – ohne selbst eine Quelle für Verunreinigungen zu sein. Wenn dies nicht geschieht, geht nicht nur Zeit verloren, sondern auch die Produktivität.

Chemisch on Infrared Heat Limited

Heizgerät für Chemikalienkabinett