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		<title>Photorésist on Infrared Heat Limited</title>
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				<title>Lampe de cuisson pour résiste photo</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-ltd.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Lampe de cuisson pour résiste photo&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur le poste de lithographie, le profil thermique pendant le traitement du photorésiste est l’un de ces paramètres avec lesquels on ne peut pas négocier. Si la température pendant le séchage doux varie, l’évaporation des solvants se produit de manière incohérente. Un point chaud pendant le séchage intensif entraîne une déformation des dimensions critiques du photorésiste. Cela a un impact négatif sur le rendement et sur le temps de durcissement du photorésiste. Nous avons conçu nos lampes de séchage pour maintenir ce profil thermique constant, tout au long du processus, depuis le séchage doux jusqu’au séchage intensif.&lt;/p&gt;</description>
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