<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Fotoresist on Infrared Heat Limited</title>
		<link>http://ir-heat-ltd.com/id/tags/fotoresist/</link>
		<description>Recent content in Fotoresist on Infrared Heat Limited</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 26 Jun 2026 04:39:41 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-ltd.com/id/tags/fotoresist/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu pemanas untuk photoresist</title>
				<link>http://ir-heat-ltd.com/id/posts/photoresist-baking-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 04:39:41 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-ltd.com/id/posts/photoresist-baking-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-ltd.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Lampu pemanas untuk photoresist&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di proses litografi, profil suhu selama pemrosesan fotoresist merupakan faktor yang tidak bisa dikompromikan. Jika proses pemanasan yang lembut tidak berjalan &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;secara&lt;/a&gt; optimal, maka proses evaporasi pelarut akan terganggu. &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;Adanya&lt;/a&gt; titik panas selama proses pemanasan yang intensif akan menyebabkan dimensi-dimensi kritis dari bahan fotoresist berubah. Hal ini tentu akan mempengaruhi kualitas produk dan waktu pengolahan. Kami merancang lampu pemanas untuk fotoresist agar profil suhu tetap stabil, mulai dari proses pemanasan yang lembut hingga proses pemanasan yang intensif, di seluruh permukaan wafer.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
