Lampada per la cottura del fotoresist

Fri, 26 Jun 2026 04:39:41 +0800

Nella fase di litografia, il profilo termico durante il trattamento del fotoresisto è uno di quei fattori su cui semplicemente non si può negoziare. Se ci sono variazioni nella temperatura durante la fase di “soft bake”, l’evaporazione dei solventi avviene in modo imprevedibile. Un punto caldo durante la fase di “hard bake” fa sì che le dimensioni critiche del prodotto cambino. Entrambi questi fattori influiscono negativamente sulla qualità del prodotto e sul tempo necessario per completare il processo. Abbiamo progettato le lampade per il trattamento del fotoresisto in modo da mantenere costante quel profilo termico, dalla fase di “soft bake” fino a quella di “hard bake”, su tutto il wafer.

Cottura in Forno on Infrared Heat Limited

Lampada per la cottura del fotoresist