Forno per ambienti puliti _con riscaldatore a infrarossi

Thu, 09 Jul 2026 05:30:26 +0800

Introduzione
Quando si lavora con wafer semiconduttori, non si può trascurare alcun dettaglio. Il controllo della contaminazione e una regolazione precisa della temperatura non sono semplicemente vantaggiosi: sono assolutamente necessari.
Allora, qual è la soluzione? Come possiamo assicurarci che tutta l’energia utilizzata venga convertita in calore utilizzabile, proprio dove ne c’è bisogno?
La risposta sta nel nostro rivestimento in oro ad alta efficienza. È il cuore del sistema: permette di ridurre gli sprechi energetici e di mantenere le temperature perfettamente uniformi all’interno di una sala pulita.

Elemento riscaldante per forno a semiconduttore

Tue, 02 Jun 2026 05:52:25 +0800

Sulla linea di produzione, il bake del fotoresist non è semplicemente “una fase di riscaldamento”. È controllo dimensionale, chiaro e semplice.
Aumentare il soft bake o l’hard bake di soli 2°C significa uscire dal target di CD. La linea si ferma. Per questo abbiamo progettato l’elemento riscaldante del forno per mantenere la temperatura di processo con la disciplina richiesta dalla fabbrica.

Cosa conta, tecnicamente
Utilizziamo IR a onde corte in un involucro di quarzo perché risponde rapidamente e garantisce un trasferimento di calore pulito. Sull’intero carico wafer, l’uniformità è di ±0.1°C e la ripetibilità da ciclo a ciclo resta nello stesso intervallo.
La costruzione è compatibile con camere bianche Class 1–100. Manteniamo bassa la fuoriuscita di gas e azzeriamo la generazione di particelle durante il bake. La potenza erogata è stabile, quindi i profili di rampa e soak rimangono precisi, mantenendo il budget termico all’interno della finestra di litografia.

Forno on Infrared Heat Limited

Forno per ambienti puliti _con riscaldatore a infrarossi

Elemento riscaldante per forno a semiconduttore