Distributore di ricambi per produzione di macchinari Fab

Sat, 27 Jun 2026 04:32:12 +0800

Nella sala di produzione, si permette che il profilo di riscaldamento del fotoresistente vari di 2°C; di conseguenza, la litografia diventa più difficile da gestire. L’irregolarità nella temperatura di riscaldamento si manifesta rapidamente come variazioni nelle dimensioni dei lineamenti presenti sul wafer. Le irregolarità legate al processo di riscaldamento intensivo, invece, causano problemi come la formazione di imperfezioni sulla superficie del wafer e una cattiva adesione del fotoresistente. Il risultato finale sono wafer danneggiati e tempi di fermata imprevisti, mentre si cerca di mantenere la stabilità termica.

Pezzi Di Ricambio on Infrared Heat Limited

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