Penderia IR yang tepat untuk wafer

Mon, 20 Jul 2026 11:10:01 +0800

Mengapa kita beralih kepada kaedah pengeringan menggunakan sinar inframerah untuk cip yang bebas plumbum
Dunia semikonduktor kini sedang beransur meninggalkan kaedah pengeringan lama yang menggunakan haba konvensional. Kebanyakan pengeluar kini beralih kepada kaedah pengeringan menggunakan sinar inframerah. Ini bukan sekadar untuk mematuhi peraturan “mesra alam” atau penggunaan bahan yang bebas plumbum – walaupun itu juga merupakan faktor penting. Sebenarnya, kaedah ini lebih efektif kerana ia menggunakan radiasi elektromagnetik untuk memanaskan bahan tersebut.

Berbeza dengan ketuhar konvensional yang memerlukan udara panas untuk dipam ke seluruh ruangan, kaedah IR hanya menggunakan radiasi elektromagnetik yang bertujuan untuk memanaskan permukaan bahan secara langsung.

Pemanas suhu berketepatan tinggi

Wed, 17 Jun 2026 15:22:04 +0800

Dalam proses litografi, suhu 90°C yang digunakan semasa proses pembakaran tersebut bukan sekadar tetapan pada panel kawalan sahaja. Ia merupakan garis pemisah antara profil fotorezist yang mempunyai bentuk yang stabil, dan wafer yang akhirnya menjadi bahan buangan.

Perubahan suhu sebanyak 0.5°C sahaja sudah cukup untuk mengganggu keseragaman permukaan wafer, sehingga menyebabkan kawalan ketebalan garisan pada wafer tidak tepat mengikut spesifikasi yang ditetapkan. Dalam industri ini, suhu bukan sekadar faktor haba semata-mata; ia merupakan variabel penting yang perlu dikawal dengan teliti dari satu kitaran pengeluaran ke kitaran yang lain.

Ketepatan on Infrared Heat Limited

Penderia IR yang tepat untuk wafer

Pemanas suhu berketepatan tinggi