Pembuatan on Infrared Heat Limited

Pembuatan biosensor menggunakan lampu inframerah

Tue, 28 Jul 2026 05:07:59 +0800

Mengapa kami beralih kepada kaedah penyembuhan menggunakan cahaya inframerah untuk pembuatan biosensor bebas plumbum
Ketika membina biosensor, memastikan suhu yang sesuai merupakan cabaran yang besar. Anda perlu menyembuhkan polimer tersebut dan mengikat lapisan biologi yang ada di dalamnya. Namun, jika suhu yang digunakan terlalu tinggi, ia akan merosakkan permukaan substrat tersebut.

Kami mula menggunakan lampu inframerah kerana ia berfungsi dengan cara yang berbeza. Ia tidak menggunakan udara panas untuk memanaskan bahan tersebut, sebaliknya menggunakan radiasi. Ini bermakna tiada keperluan untuk menggunakan udara panas atau pelarut kimia. Yang paling penting, tiada sisa kimia yang tertinggal pada permukaan wafer tersebut.

Pembuatan biosensor menggunakan lampu inframerah

Tue, 28 Jul 2026 04:46:35 +0800

Mencapai suhu yang tepat untuk biosensor
Jika anda pernah bekerja dalam pembuatan biosensor, anda pasti tahu betapa pentingnya mengawal suhu dengan tepat. Sedikit peningkatan suhu sahaja sudah cukup untuk merosakkan substrat yang sensitif tersebut. Ia merupakan situasi yang sangat menyusahkan. Apabila anda ingin membina sistem pembuatan yang canggih yang bergantung pada data, anda tidak boleh hanya “berharap” agar suhu berada pada tahap yang tepat – anda memerlukan sistem yang mampu mengawal suhu secara tepat.

Itulah sebabnya kebanyakan orang menggunakan lampu inframerah (IR). Lampu ini berfungsi dengan baik, kerana ia dapat menghantar tenaga terus ke sasaran tanpa perlu memanaskan udara di sekelilingnya terlebih dahulu.

Penyelesaian pembuatan pakaian yang mampan

Mon, 27 Jul 2026 03:44:44 +0800

Hentikan amalan memanaskan dinding peralatan tersebut (dan mulailah memanaskan wafer sahaja)

Pernahkah anda menyentuh bahagian sisi peralatan manufaktur tersebut dan merasakan haba yang terpancar daripadanya? Ia sangat mengganggu, membahayakan keselamatan, dan sebenarnya merupakan pembaziran tenaga.

Kebanyakan elemen pemanas biasa akan memancarkan haba ke semua arah. Ini menyebabkan dinding dalaman peralatan menjadi “penyerap haba” yang besar. Pada dasarnya, anda sedang membayar untuk memanaskan badan mesin tersebut, bukannya bahagian yang benar-benar memerlukan pemanasan.

Kami menyelesaikan masalah ini dengan menggunakan lampu IR yang berarah.

Pemanas untuk pembuatan nanotube karbon

Sun, 12 Jul 2026 09:20:59 +0800

Menjaga Keselamatan Semasa Menggunakan Pemanas IR di Sekitar Bahan Kimia yang Mudah Terbakar

Jika anda sedang bekerja dalam penghasilan nanotube karbon (CNT), anda pasti tahu betapa pentingnya kawalan suhu yang tepat semasa proses pembersihan. Namun, masalahnya ialah apabila kita berhadapan dengan pelarut yang mudah terbakar atau meletup, lampu IR biasa sebenarnya merupakan bom masa. Sedikit percikan api atau kerosakan pada filamen lampu sudah cukup untuk menyebabkan bencana.

Kami tidak menggunakan lampu yang digunakan di luar ruangan. Sebaliknya, kami membungkus semua komponen tersebut dalam lapisan pelindung yang ketat.

Pemanas untuk pembuatan sensor hidrogen

Sat, 11 Jul 2026 08:36:51 +0800

Hentikan “hujan kaca” ini: Jaga kebersihan sensor hidrogen anda
Jika anda pernah terlibat dalam proses pembuatan sensor hidrogen, pasti anda tahu betapa buruknya situasi yang boleh berlaku.

Ketika proses pengeluaran sedang berjalan dengan intensiti tinggi, tiba-tiba mentol kuarsa tersebut pecah. Ini bukan sekadar masalah kecil; ia merupakan bencana sebenar. Serpihan kaca dan bahan kimia akan merosakkan wafer yang digunakan, dan akibatnya keseluruhan produk yang dihasilkan menjadi tidak berguna.

Mengapa mentol gagal
Mentol IR berkuasa tinggi ini beroperasi dalam suasana suhu yang sangat tinggi. Apabila perbezaan suhu antara filamen dan lapisan kuarsa menjadi terlalu besar, ia akan menyebabkan kerosakan pada mentol tersebut. Jika hal ini berulang-ulang, permukaan mentol akan retak. Apabila lapisan pelindungnya rosak, filamen akan terbakar dengan cepat, dan mentol tersebut akan pecah.

Lampu untuk pembuatan peranti mikrofluidik

Tue, 30 Jun 2026 04:46:25 +0800

Di permukaan wafer, saluran mikrofluidik tidak memberi ruang untuk berlakunya perubahan pada profil fotoresist. Perubahan suhu sebanyak satu darjah sahaja sudah cukup untuk menyebabkan perubahan lebar garisan tersebut. Jika proses pembakaran dilakukan secara tidak tepat, bahan sisa akan terbentuk dan seterusnya menyumbat saluran mikrofluidik tersebut. Oleh itu, diperlukan lampu yang dapat mengawal suhu dengan tepat, bukannya hanya berdasarkan anggaran semata-mata.

Inilah yang penting dalam proses pembuatan mikrofluidik ini. Kami membina lampu ini menggunakan pemancar halogen SWIR yang terletak di dalam sarung kuarza. Kelebihannya ialah respons yang cepat dan keluaran spektrum yang stabil dari hari ke hari. Kekonsistenan suhu di seluruh kawasan pembakaran adalah sekitar ±0.1°C, sehingga dimensi kritikal produk dapat dikawal dengan baik. Sistem ini sesuai digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, tanpa penghasilan zarah debu, dengan adanya sistem pemantauan secara berterusan. Kawalan berputar menggunakan termokopel yang telah dikalibrasi, dan ia membolehkan penggunaan kaedah yang sama untuk proses pembakaran jenis lembut dan keras.

Pengedar alat ganti untuk pembuatan fabrikasi

Sat, 27 Jun 2026 04:32:12 +0800

Di bilik pengeluaran, anda membiarkan suhu pengeringan bahan fotorezistan berubah sebanyak 2°C. Akibatnya, proses litografi akan terganggu. Ketidaksamaan suhu semasa proses pengeringan akan menyebabkan variasi ketebalan garis pada permukaan wafer. Ketidakkonsistenan suhu yang tinggi pula akan menyebabkan masalah seperti kekotoran pada permukaan wafer dan daya lekat yang lemah. Hasilnya, wafer tersebut akan dibuang, dan masa pengeluaran akan terhenti secara tidak dijangka sementara usaha dilakukan untuk mencapai kestabilan suhu yang optimum.

Apa yang penting dari segi teknikal
Kami telah membina sistem kawalan suhu yang sangat tepat untuk kegunaan dalam industri semikonduktor: ketepatan suhu pada tahap wafer sekitar ±0.1°C, kesesuaian dengan bilik bersih kelas 1–100, dan tiada penjanaan zarah-zarah halus. Unsur inframerah gelombang pendek dan sederhana membolehkan kawalan suhu yang cepat dan konsisten, sehingga bahan fotorezistan mendapat profil suhu yang sama setiap kali digunakan. Sistem ini beroperasi 24/7 tanpa gangguan, dan profil suhu tetap stabil walaupun semasa menukar jenis wafer yang digunakan.