Penderia suhu untuk alat pemprosesan wafer

Wed, 22 Jul 2026 04:32:53 +0800

Jangan biarkan elemen pemanas merosakkan wafer anda

Jika anda beroperasi di bilik bersih kelas 100, anda pasti tahu betapa buruknya kesannya. Sekiranya ada zarah mikroskopik yang melekat pada wafer, hasil pengeluaran anda akan menurun dengan drastik.

Masalahnya biasanya berpunca daripada elemen pemanas. Kebanyakan lampu biasa mengeluarkan gas atau zarah-zarah kecil yang boleh merosakkan wafer ketika ia sepatutnya berada dalam keadaan bersih. Kami memutuskan untuk menggunakan kwarsa sintetik berkualiti tinggi sebagai bahan pembuat lampu IR tersebut.

Pemanas suhu berketepatan tinggi

Wed, 17 Jun 2026 15:22:04 +0800

Dalam proses litografi, suhu 90°C yang digunakan semasa proses pembakaran tersebut bukan sekadar tetapan pada panel kawalan sahaja. Ia merupakan garis pemisah antara profil fotorezist yang mempunyai bentuk yang stabil, dan wafer yang akhirnya menjadi bahan buangan.

Perubahan suhu sebanyak 0.5°C sahaja sudah cukup untuk mengganggu keseragaman permukaan wafer, sehingga menyebabkan kawalan ketebalan garisan pada wafer tidak tepat mengikut spesifikasi yang ditetapkan. Dalam industri ini, suhu bukan sekadar faktor haba semata-mata; ia merupakan variabel penting yang perlu dikawal dengan teliti dari satu kitaran pengeluaran ke kitaran yang lain.

Suhu on Infrared Heat Limited

Penderia suhu untuk alat pemprosesan wafer

Jangan biarkan elemen pemanas merosakkan wafer anda

Pemanas suhu berketepatan tinggi