Polyimide bakinfraroodlamp

Wed, 01 Jul 2026 12:20:00 +0800

Op de lithografieafdeling wordt het proces van het drogen van polyimide gebruikt om de afmetingen van de fijne metalen lijnen vast te leggen. Een verschil van 5°C op het wafer kan ertoe leiden dat de kritieke afmetingen met enkele nanometers veranderen – genoeg om de lijnen onbruikbaar te maken. We hebben speciale infraroodlampen ontworpen om deze variabiliteit uit te sluiten.

Wat technisch gezien belangrijk is: We gebruiken kortgolf-infraroodemitters die zijn afgestemd op de absorptie van polyimide. De thermische reactie vindt snel plaats – binnen enkele seconden – en we houden de uniformiteit op het wafer op een niveau van ±0,1°C. Het lamplichaam is geschikt voor gebruik in milieuzones van klasse 1–100; er worden materialen gebruikt die weinig gassen afgeven, en het ontwerp zorgt ervoor dat er geen deeltjes vrijkomen. Hierdoor blijft het aantal defecten laag.

Fotoresistentdrooglamp

Fri, 26 Jun 2026 04:39:42 +0800

Op de lithografielijn is het thermische profiel tijdens het verwerken van fotoresist een factor die gewoon niet kan worden aangepast. Als er afwijkingen optreden tijdens het zachte bakproces, zal de verdamping van oplosmiddelen ook afwijken van het gewenste niveau. Een te hoge temperatuur tijdens het harde bakproces kan ervoor zorgen dat de kritieke dimensies van het product veranderen. Dit heeft invloed op de kwaliteit en de productietijd. We hebben onze lampen zo ontworpen dat het thermische profiel constant blijft – van het zachte tot het harde bakproces – overal op de wafer.

Bakken on Infrared Heat Limited

Polyimide bakinfraroodlamp

Fotoresistentdrooglamp