<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Fotorezerveerstof on Infrared Heat Limited</title>
		<link>http://ir-heat-ltd.com/nl/tags/fotorezerveerstof/</link>
		<description>Recent content in Fotorezerveerstof on Infrared Heat Limited</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 26 Jun 2026 04:39:42 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-ltd.com/nl/tags/fotorezerveerstof/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Fotoresistentdrooglamp</title>
				<link>http://ir-heat-ltd.com/nl/posts/photoresist-baking-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 04:39:42 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-ltd.com/nl/posts/photoresist-baking-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-ltd.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Fotoresistentdrooglamp&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Op de lithografielijn is het thermische profiel tijdens het verwerken van fotoresist een factor die gewoon niet kan worden aangepast. Als er afwijkingen optreden tijdens het zachte bakproces, zal de verdamping van oplosmiddelen ook afwijken van het gewenste niveau. Een te hoge temperatuur tijdens het harde bakproces kan ervoor zorgen dat de kritieke dimensies van het product veranderen. Dit heeft invloed op de kwaliteit en de productietijd. We hebben onze lampen zo ontworpen dat het thermische profiel constant blijft – van het zachte tot het harde bakproces – overal op de wafer.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
