<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Lampje on Infrared Heat Limited</title>
		<link>http://ir-heat-ltd.com/nl/tags/lampje/</link>
		<description>Recent content in Lampje on Infrared Heat Limited</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 04:01:51 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-ltd.com/nl/tags/lampje/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Canon lithografietoestelverwarmingsbuis</title>
				<link>http://ir-heat-ltd.com/nl/posts/canon-lithography-heater-bulb/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 04:01:51 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-ltd.com/nl/posts/canon-lithography-heater-bulb/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-ltd.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Canon lithografietoestelverwarmingsbuis&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Op de productielijn is ‘zachte bakking’ geen manier om het apparaat voor te verwarmen. Het is eerder een grensvoorwaarde voor het controleren van de dikte van de lijnen op het oppervlak van de chip. Als je de temperatuur met 0,5°C verandert, verandert ook het bereik waarbinnen de dosis kan worden ingesteld. Een hete plek op het oppervlak van de chip kan leiden tot gebreken die pas tijdens het ettingsproces zichtbaar worden. De heaters in de Canon-litografieapparaten zijn ontworpen om deze thermische grenzen constant te houden, shift na shift.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
