<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Мікрофлюїдика on Infrared Heat Limited</title>
		<link>http://ir-heat-ltd.com/uk/tags/%D0%BC%D1%96%D0%BA%D1%80%D0%BE%D1%84%D0%BB%D1%8E%D1%97%D0%B4%D0%B8%D0%BA%D0%B0/</link>
		<description>Recent content in Мікрофлюїдика on Infrared Heat Limited</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 30 Jun 2026 04:46:25 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-ltd.com/uk/tags/%D0%BC%D1%96%D0%BA%D1%80%D0%BE%D1%84%D0%BB%D1%8E%D1%97%D0%B4%D0%B8%D0%BA%D0%B0/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Пристрій для виготовлення мікрофлюїдичних пристроїв</title>
				<link>http://ir-heat-ltd.com/uk/posts/microfluidic-device-fabrication-lamp/</link>
				<pubDate>Tue, 30 Jun 2026 04:46:25 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-ltd.com/uk/posts/microfluidic-device-fabrication-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-ltd.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Пристрій для виготовлення мікрофлюїдичних пристроїв&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На поверхні пластини мікрофлюїдні канали не залишають можливості для зміщення профілю фоторезисту. Навіть незначне зміщення при тепловій обробці призводить до зміни ширини ліній. При недостатньої температурі обробки утворюються залишки, які згодом можуть закупорити мікроканали. Потрібна лампа, яка буде враховувати температурні параметри як справжній процесний параметр, а не просто припущення.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Ось що є важливим у цьому процесі. Ми створили ці лампи для мікрофлюїдної обробки на основі світлодіодів SWIR у кварцовому корпусі. Це дає можливість отримувати швидку відповідь та стабільний спектральний вихід протягом усього часу роботи. Єдність параметрів на поверхні пластини зберігається на рівні ±0,1°C у всій зоні обробки, тож контроль критичних розмірів можливий під час кожної процедури обробки. Система призначена для роботи в чистих приміщеннях класу 1–100 без утворення частинок, що забезпечується поточним контролем. Контроль відбувається за допомогою каліброваних термопар, а також існує бібліотека рецептів для різних процедур обробки.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
