Di lantai litografi, proses pengeringan poliimida merupakan langkah penting yang menentukan dimensi garis-garis logam halus tersebut. Perubahan suhu sebesar 5°C saja sudah cukup untuk mengubah dimensi garis-garis tersebut hingga beberapa nanometer—hal ini tentu akan merusak kualitas hasil produksi. Kami menggunakan lampu inframerah khusus untuk mengurangi variasi tersebut.
Yang penting secara teknis:
Kami menggunakan emitor inframerah berpanjang gelombang pendek yang disesuaikan dengan karakteristik penyerapan poliimida. Respons termalnya sangat cepat, hanya dalam hitungan detik saja. Kita juga dapat menjaga keseragaman suhu di permukaan wafer pada kisaran ±0,1°C. Badan lampu dirancang agar cocok digunakan di lingkungan cleanroom kelas 1–100, dengan bahan-bahan yang tidak menghasilkan gas berbahaya serta desain yang mencegah masuknya partikel-partikel ke dalam sistem tersebut. Dengan demikian, jumlah cacat yang terjadi tetap rendah.
Proses pengeringan fotoresist berjalan secara konsisten, dengan variasi suhu yang sangat kecil, hari demi hari. Stabilitas hasil produksi tetap terjaga pada kisaran 2% selama lebih dari 5.000 jam. Pengendalian suhu juga dilakukan secara ketat berkat adanya sistem kontrol berbasis loop tertutup.
Mengapa sistem ini efektif di pabrik manufaktur:
Di pabrik manufaktur berskala besar, proses pengeringan poliimida harus dilakukan dalam rentang suhu yang tertentu. Lampu-lampu ini mampu mencapai suhu yang ditentukan dengan cepat, mempersingkat waktu pemrosesan, dan mengurangi konsumsi energi sebesar 25–35% dibandingkan alat konvensional. Dengan demikian, proses produksi berlangsung lebih cepat tanpa mengorbankan kualitasnya. Selain itu, risiko kesalahan akibat proses pengeringan pun berkurang.
Sistem ini dapat dipasang pada peralatan existing, sehingga logika proses produksi tetap terjaga, sementara akurasi suhu tetap terjaga.
Detil praktisnya:
Pemasangan lampu perlu dilakukan dengan memperhatikan geometri chuck dan emisi panas dari sisi belakang wafer. Jika hal ini tidak dilakukan dengan benar, maka akan terjadi perbedaan suhu di bagian tepi wafer. Lampu ini juga berfungsi optimal ketika digunakan pada wadah yang bersih dan kering, serta dalam kondisi lingkungan yang terkendali.
Waktu pemeliharaan awal memang diperlukan untuk menyetel intensitas cahaya dan waktu pemrosesan sesuai dengan jenis poliimida yang digunakan. Setelah itu, proses produksi dapat berjalan secara konsisten.