Jangan biarkan elemen pemanas merusak wafer Anda. Jika Anda menggunakan ruang bersih kelas 100, Anda pasti tahu betapa buruknya situasinya jika ada partikel mikroskopis yang menempel pada wafer. Hal tersebut akan menyebabkan penurunan kualitas wafer secara drastis.
Masalahnya biasanya berasal dari elemen pemanas itu sendiri. Lampu-lampu standar sering kali mengeluarkan gas atau partikel kecil saat diperlukan kondisi yang sangat bersih. Kami memutuskan untuk mengatasi masalah ini dengan menggunakan kuarsa sintetis berkualitas tinggi untuk lampu IR kami.
Mengapa kuarsa begitu penting?
Kami menggunakan silika yang hampir bebas dari kotoran. Mengapa? Karena hal ini mencegah lampu mengeluarkan ion logam atau partikel ketika suhu meningkat. Kuarsa berfungsi sebagai pelindung yang efektif bagi filamen tungsten. Kami juga tidak menggunakan lem organik atau bahan keramik murahan yang umum digunakan dalam perangkat biasa. Dengan demikian, ketika lampu dihidupkan dalam kondisi vakum, tidak akan ada asap atau gas yang keluar. Semuanya akan berjalan lancar.
Pemanasan di tempat yang tepat
Dalam alat pemroses wafer, Anda perlu memanaskan permukaan wafer dengan cepat dan merata. Lampu IR kami menghasilkan energi dalam spektrum gelombang pendek. Dengan demikian, panasnya langsung masuk ke substrat silikon, sehingga proses pemanasan berlangsung lebih cepat. Hal ini membuat kontrol suhu menjadi lebih akurat.
Masalah-masalah yang mungkin terjadi dan cara mengatasinya
Berita baiknya adalah lampu-lampu ini dapat digunakan sebagai pengganti lampu lama tanpa perlu mengubah struktur perangkat Anda. Namun, lampu-lampu ini memiliki densitas panas yang tinggi. Hal ini akan memberikan tekanan besar pada sistem pendinginan. Jika sistem pendinginan tidak cukup kuat untuk menangani daya yang dihasilkan, maka lampu akan overheat. Akibatnya, filamen akan cepat rusak.
Beberapa tips untuk menjaga kinerja lampu:
Periksa penyesuaian reflektor setiap 500 jam. Bahkan sedikit penyimpangan sudut cermin pun bisa menyebabkan adanya titik panas, yang tentu saja akan merusak wafer. Selain itu, saat membersihkan kuarsa, gunakan alkohol isopropil berkualitas tinggi. Bahan lainnya akan meninggalkan sisa-sisa yang akan merusak permukaan kuarsa.