웨이퍼 처리 과정에서는 마이크로유체 채널들이 포토레지스트의 형상 변화를 방지해줍니다. 소프트 베이크 과정에서조차도 약간의 온도 변동만으로도 선의 폭이 변하게 됩니다. 하드 베이크 과정에서는 잔여물이 남아서 나중에 마이크로채널을 막을 수 있습니다. 따라서 열적 요소를 단순한 추측이 아닌 실제 공정 파라미터로 다룰 수 있는 램프가 필요합니다.
핵심적인 점은 다음과 같습니다.
저희는 석영 케이스 내에 위치한 SWIR 할로겐 발광체를 활용하여 이러한 마이크로유체 제조용 램프를 만들었습니다. 그 결과, 빠른 반응 속도와 안정적인 스펙트럼 출력을 얻을 수 있습니다. 베이킹 구역 전체에서 웨이퍼의 온도는 ±0.1°C 내로 유지되므로, 매번 일관된 품질의 제품을 생산할 수 있습니다. 이 시스템은 클래스 1–100등급의 청정실에서 사용될 수 있으며, 입자 발생이 전혀 없습니다. 클로즈드-루프 제어 방식을 통해 정밀한 온도 조절이 가능하며, 소프트 베이크와 하드 베이크 과정 모두에 대해 재현 가능한 설정값을 제공합니다.
마이크로유체 공정에 있어서 중요한 점은, 리소그래피 과정에서 여러 번의 습식/건식 처리가 이루어져도 패턴이 손상되지 않아야 한다는 것입니다.
저희의 램프는 포토레지스트가 처음에 용매를 배출하는 단계부터 최종적으로 교차결합이 이루어지는 단계까지, 정확한 온도를 유지해줍니다. 그 결과, 재작업이 줄어들고, 생산성이 향상되며, 처리 시간도 예측 가능해집니다. 또한, 빠른 온도 상승과 낮은 대기 전력 소비 덕분에 웨이퍼당 운영 비용도 줄어듭니다.
실제 사용하기 전에 반드시 확인해야 할 몇 가지 사항이 있습니다.
설치 시에는 램프의 크기가 트랙 히트플레이트와 잘 맞는지 확인해야 하며, 커넥터의 호환성도 확인해야 합니다. 일반적으로 도구 연동을 위해서는 24V DC가 필요합니다. SWIR 램프는 표면 온도가 매우 높으므로, 열 차단 및 안전장치가 반드시 필요합니다. 5,000시간마다 한 번씩 보정을 해주는 것이 좋습니다. 이 기간 동안에는 출력 감소가 5% 미만이지만, 광학 부품과 센서의 정렬 상태는 계속해서 점검해야 합니다. 그래야만 ±0.1°C라는 일정한 온도를 유지할 수 있습니다.