Op de lithografielijn is het thermische profiel tijdens het verwerken van fotoresist een factor die gewoon niet kan worden aangepast. Als er afwijkingen optreden tijdens het zachte bakproces, zal de verdamping van oplosmiddelen ook afwijken van het gewenste niveau. Een te hoge temperatuur tijdens het harde bakproces kan ervoor zorgen dat de kritieke dimensies van het product veranderen. Dit heeft invloed op de kwaliteit en de productietijd. We hebben onze lampen zo ontworpen dat het thermische profiel constant blijft – van het zachte tot het harde bakproces – overal op de wafer.
Wat belangrijk is We combineren halogeen- of NIR-emitters met kwartzoptoepassingen en een gesloten regelingscyclus, zodat de uniformiteit op het niveau van de wafer op ±0,1°C wordt behouden. Hierdoor zijn de bakprofielen reproduceerbaar, waardoor de dikte van de fotoresist en de kritieke dimensies constant blijven, batch na batch. De compatibiteit met cleanrooms van klasse 1–100 is al in het ontwerp opgenomen: materialen met lage uitstoot van gassen en een goed gecontroleerde luchtstroom voorkomen contaminatie tijdens het proces.
Het vermijden van de vorming van deeltjes is geen slogan – het komt neer op de integriteit van de filters en de luchtcirculatie in de kamer, zodat het aantal deeltjes constant blijft, zelfs bij 24/7 gebruik.
Dit is waarom deze lampen geschikt zijn voor productie. Je wilt immers dat de apparatuur continu werkt, zonder problemen. Deze lampen leveren stabiele prestaties gedurende meer dan 5.000 uur, met minimale afwijkingen. Hierdoor wordt onplanbare stilstand verminderd en wordt de productietijd verkort. Efficiënte emitters en snelle thermische respons zorgen voor minder energieverbruik, zonder dat de precisie van het bakproces wordt aangetast.
Of je nu een zacht bakproces gebruikt om de viscositeit van de fotoresist vast te stellen voordat deze wordt blootgesteld aan straling, of een hard bakproces om het patroon vast te leggen voordat er wordt geëtst: dezelfde lampen zorgen voor consistente resultaten, ongeacht de wafer of het apparaat.
Enkele praktische tips De installatie is specifiek voor elk apparaat. Het is belangrijk om de lamp aan te passen aan de afmetingen van de kamer, de aansluitingen en het temperatuurregelsysteem. Hierdoor kan je snel controleren of alles in orde is. De lamp presteert het beste wanneer de reflectiviteit van de kamer en de koeling volgens de specificaties worden onderhouden. Anders kan de uniformiteit van het product worden beïnvloed.
We verstrekken alle benodigde informatie en installatieregels van tevoren, zodat de eerste batch direct klaar is voor gebruik, zonder dat er nog iets moet worden aangepast.