Dalam proses litografi, profil suhu semasa pemprosesan bahan fotoresist merupakan faktor yang mustahil untuk diubah. Jika suhu semasa proses “soft bake” berubah, proses penyejatan pelarut juga akan terganggu. Sementara itu, kawasan yang terlalu panas semasa proses “hard bake” pula akan menyebabkan dimensi-kunci bahan fotoresist berubah. Kedua-dua perkara ini akan mempengaruhi kualiti hasil pengeluaran serta masa yang diperlukan untuk menyelesaikan proses tersebut. Kami telah mencipta lampu khusus untuk pemprosesan bahan fotoresist agar profil suhu tetap stabil sepanjang proses, dari tahap “soft bake” hingga “hard bake”.
Apa yang penting dalam proses ini
Kami menggunakan emitter halogen atau NIR bersama-sama dengan optik kuarsa dan sistem kawalan berulang untuk memastikan keseragaman suhu pada tahap ±0.1°C. Dengan cara ini, profil suhu yang konsisten dapat dicapai, sehingga ketebalan bahan fotoresist dan dimensi-kunci lain tetap stabil dari satu kumpulan produk ke kumpulan produk yang lain. Reka bentuk lampu ini juga disesuaikan agar sesuai dengan standard bilik bersih kelas 1–100; bahan-bahan yang digunakan tidak menghasilkan gas berbahaya, dan aliran udara dalam bilik juga dikawal dengan baik agar kontaminasi tidak masuk ke dalam proses pengeluaran.
Pengeluaran zarah-zarah yang tidak diinginkan bukanlah sekadar slogan semata-mata; ia bergantung pada integriti penapis dan aliran udara dalam bilik tersebut. Dengan cara ini, kualiti produk dapat dijamin walaupun sistem beroperasi 24/7.
Inilah sebabnya mengapa sistem ini efektif dalam proses pengeluaran. Anda ingin agar sistem beroperasi secara berterusan, tanpa perlu membuat pelarasan yang kerap. Lampu ini mampu memberikan prestasi yang stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan perubahan suhu yang minimum. Dengan demikian, masa henti yang tidak dijangka dapat diminimakan, dan masa yang diperlukan untuk menyelesaikan proses pengeluaran juga dapat dikurangkan. Emitter yang efisien serta respons termal yang cepat membantu mengurangkan penggunaan tenaga, tanpa mengorbankan ketepatan proses pemprosesan.
Sama ada anda menggunakan proses “soft bake” untuk menetapkan viskositi bahan fotoresist sebelum proses pendedahan, atau proses “hard bake” untuk menetapkan pola yang diinginkan sebelum proses pengikisan, lampu ini tetap mampu menghasilkan profil suhu yang konsisten, tanpa mengira jenis wafer atau alat yang digunakan.
Beberapa perkara praktikal yang perlu diperhatikan:
Pemasangan lampu ini harus disesuaikan dengan spesifikasi alat yang digunakan. Memastikan lampu sesuai dengan saiz bilik, antaramuka sambungan, dan sistem kawalan suhu adalah penting. Lampu ini akan berfungsi dengan lebih baik jika reflektiviti bilik dan sistem penyejukan dipastikan memenuhi spesifikasi yang ditetapkan. Jika aspek-aspek ini tidak dipenuhi, keseragaman suhu akan terjejas.
Kami menyediakan maklumat terperinci mengenai antaramuka dan prosedur pemasangan, agar produk pertama yang dihasilkan sudah memenuhi standard yang ditetapkan, tanpa perlu dilakukan pembaikan.