Jangan biarkan elemen pemanas merosakkan wafer anda
Jika anda beroperasi di bilik bersih kelas 100, anda pasti tahu betapa buruknya kesannya. Sekiranya ada zarah mikroskopik yang melekat pada wafer, hasil pengeluaran anda akan menurun dengan drastik.
Masalahnya biasanya berpunca daripada elemen pemanas. Kebanyakan lampu biasa mengeluarkan gas atau zarah-zarah kecil yang boleh merosakkan wafer ketika ia sepatutnya berada dalam keadaan bersih. Kami memutuskan untuk menggunakan kwarsa sintetik berkualiti tinggi sebagai bahan pembuat lampu IR tersebut.
Mengapa kwarsa sangat penting?
Kami menggunakan silika yang hampir bebas daripada sebarang kekotoran. Mengapa? Kerana ia dapat mencegah lampu daripada mengeluarkan ion logam atau zarah-zarah kecil ketika suhu meningkat. Anda boleh anggap bahawa lapisan kwarsa ini merupakan penutup yang kedap udara untuk filamen tungsten. Kami juga tidak menggunakan gam organik atau bahan seramik murah yang biasa digunakan dalam komponen biasa. Dengan cara ini, apabila lampu dihidupkan dalam vakum, tiada asap atau gas berbahaya yang akan keluar. Ia berfungsi dengan sempurna.
Panaskan di tempat yang sepatutnya
Dalam alat pemprosesan wafer, anda perlu meningkatkan suhu dengan cepat dan memastikan suhu yang sama di seluruh permukaan wafer. Lampu IR kami menghasilkan tenaga dalam spektrum gelombang pendek. Dengan cara ini, haba langsung masuk ke dalam substrat silikon. Proses ini berlaku dengan sangat cepat. Ini memudahkan kawalan suhu menggunakan PID.
Masalah yang mungkin timbul dan cara mengatasinya
Berita baiknya ialah lampu ini boleh digunakan sebagai pengganti lampu biasa tanpa perlu mengubah susunan komponen lain. Namun, lampu ini menghasilkan haba yang banyak. Ini akan memberi tekanan kepada sistem penyejukan. Jika sistem penyejukan tidak cukup kuat untuk menangani beban haba tersebut, bahagian lampu akan menjadi terlalu panas. Jika itu berlaku, filamen lampu akan rosak lebih awal daripada yang sepatutnya.
Beberapa tip untuk memastikan lampu berfungsi dengan baik:
Periksa orientasi reflektor setiap 500 jam. Walaupun perubahan kecil pada sudut cermin pun boleh menyebabkan berlakunya titik panas, yang seterusnya akan merosakkan keseluruhan wafer. Selain itu, gunakan alkohol isopropil berkualiti tinggi semasa membersihkan kwarsa. Bahan lain akan meninggalkan sisa yang akan merebak pada permukaan kaca, dan ini akan menyebabkan masalah yang sama lagi.