Op de lithografieafdeling wordt het proces van het drogen van polyimide gebruikt om de afmetingen van de fijne metalen lijnen vast te leggen. Een verschil van 5°C op het wafer kan ertoe leiden dat de kritieke afmetingen met enkele nanometers veranderen – genoeg om de lijnen onbruikbaar te maken. We hebben speciale infraroodlampen ontworpen om deze variabiliteit uit te sluiten.
Wat technisch gezien belangrijk is: We gebruiken kortgolf-infraroodemitters die zijn afgestemd op de absorptie van polyimide. De thermische reactie vindt snel plaats – binnen enkele seconden – en we houden de uniformiteit op het wafer op een niveau van ±0,1°C. Het lamplichaam is geschikt voor gebruik in milieuzones van klasse 1–100; er worden materialen gebruikt die weinig gassen afgeven, en het ontwerp zorgt ervoor dat er geen deeltjes vrijkomen. Hierdoor blijft het aantal defecten laag.
De parameters voor het zacht en hard drogen van het photoresist blijven dag na dag binnen een bepaald bereik. De stabiliteit van het proces blijft boven de 2% gedurende meer dan 5.000 uur. Dankzij de gesloten regelingscyclus blijft ook de thermische efficiëntie hoog.
Waarom dit werkt in een productiefabriek: In productiefabrieken moet het droogproces van polyimide zich binnen strenge thermische grenzen afspelen. Deze lampen bereiken snel het gewenste temperatuurniveau, verkorten de tijd die nodig is voor het drogen en verminderen de energieverbruik met 25–35% vergeleken met conventionele methoden. Hierdoor kunnen er snellere cycli worden uitgevoerd, zonder dat de controle over de procesparameters verloren gaat. Ook worden er minder problemen veroorzaakt door onregelmatigheden tijdens het droogproces.
Het systeem past zich gemakkelijk aan in bestaande installaties en coatingsystemen. Hierdoor blijft de processlogica intact, terwijl er wel sprake is van hoge thermische precisie.
De praktische details: Voor de installatie is het belangrijk om de lamp af te stemmen op de geometrie van de chuck en de emissiviteit van de onderkant van het wafer. Als dit niet goed gebeurt, kunnen er oneffenheden ontstaan. De lamp presteert het beste wanneer het wafer schoon en droog is, en wanneer er een gestructureerde omgeving met solventen is.
Er is een korte inrichtingsperiode nodig om de juiste stroomsterkte en tijd voor het drogen in te stellen. Eenmaal ingesteld, blijft het proces binnen nauwe grenzen – maar het proces is wel herhaalbaar.