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반도체 IR용 언더필 경화

반도체 IR용 언더필 경화

라인에서는 시계가 열변위(thermal drift)를 기다려주지 않는다. 300 mm 팹에서 언더필 경화는 범프, 플립칩 본딩 이후의 마지막 단계에 위치하며, 처리량과 수율은 초 단위로 측정되고, 결함은 마이크론 단위로 측정된다. 열 프로파일이 변동하면 보이드, 필렛...
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