Di permukaan wafer, saluran mikrofluidik tidak memberi ruang untuk berlakunya perubahan pada profil fotoresist. Perubahan suhu sebanyak satu darjah sahaja sudah cukup untuk menyebabkan perubahan lebar garisan tersebut. Jika proses pembakaran dilakukan secara tidak tepat, bahan sisa akan terbentuk dan seterusnya menyumbat saluran mikrofluidik tersebut. Oleh itu, diperlukan lampu yang dapat mengawal suhu dengan tepat, bukannya hanya berdasarkan anggaran semata-mata.
Inilah yang penting dalam proses pembuatan mikrofluidik ini. Kami membina lampu ini menggunakan pemancar halogen SWIR yang terletak di dalam sarung kuarza. Kelebihannya ialah respons yang cepat dan keluaran spektrum yang stabil dari hari ke hari. Kekonsistenan suhu di seluruh kawasan pembakaran adalah sekitar ±0.1°C, sehingga dimensi kritikal produk dapat dikawal dengan baik. Sistem ini sesuai digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, tanpa penghasilan zarah debu, dengan adanya sistem pemantauan secara berterusan. Kawalan berputar menggunakan termokopel yang telah dikalibrasi, dan ia membolehkan penggunaan kaedah yang sama untuk proses pembakaran jenis lembut dan keras.
Mengapa cara ini sesuai untuk mikrofluidik? Proses litografi perlu bertahan walaupun melalui beberapa kitaran basah dan kering, tanpa menyebabkan keruntuhan pola yang dihasilkan. Lampu ini mampu mencapai suhu yang tepat yang diperlukan oleh fotoresist, dari proses pengeluaran pelarut awal hingga proses pengikatan akhir. Ini akan mengurangkan keperluan untuk memproses semula produk, meningkatkan produktiviti, dan memudahkan perancangan masa operasi. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana proses penyesuaian suhu yang cepat dan penggunaan tenaga yang rendah semasa dalam keadaan siap sedia, sekali gus mengurangkan kos operasi per wafer.
Beberapa perkara yang perlu dipertimbangkan sebelum menggunakan lampu ini ialah penyesuaian saiz lampu agar sesuai dengan platform pemanas, serta memastikan keserasian antara komponen-komponennya. Biasanya, voltan yang digunakan ialah 24 V DC untuk integrasi dengan alat-alat lain. Lampu SWIR mempunyai suhu permukaan yang tinggi, jadi lapisan perlindungan haba dan mekanisme keselamatan sangat penting. Kalibrasi perlu dilakukan setiap 5,000 jam; kita dapat melihat penurunan keluaran kurang dari 5% dalam tempoh tersebut. Namun, penyesuaian optik dan sensor masih perlu dilakukan secara berkala untuk memastikan kekonsistenan suhu pada tahap ±0.1°C.