Di bilik proses litografi, proses pembakaran poliimid merupakan langkah penting yang menentukan dimensi garis-garis logam halus tersebut. Perubahan suhu sebanyak 5°C pada wafer boleh menyebabkan perubahan dimensi yang ketara, sehingga merosakkan struktur garis-garis logam tersebut. Kami telah mencipta lampu inframerah khusus untuk mengurangkan variasi tersebut.
Apa yang penting dari segi teknikalnya:
Kami menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek yang disesuaikan dengan sifat penyerapan poliimid. Tindak balas termalnya sangat cepat—dalam masa beberapa saat sahaja—and kami dapat memastikan keseragaman suhu pada wafer pada tahap ±0.1°C. Badan lampu tersebut direka agar sesuai digunakan di ruang bersih kelas 1–100; ia menggunakan bahan yang menghasilkan gas yang sedikit, serta reka bentuk yang tidak memungkinkan masuknya zarah-zarah kotoran, sehingga jumlah kecacatan tetap rendah.
Proses pembakaran fotosensitif berlaku secara konsisten, dengan variasi yang kecil setiap hari. Stabiliti hasilnya kekal dalam lingkungan 2% selama lebih dari 5,000 jam. Penggunaan tenaga juga dikurangkan sebanyak 25–35% berbanding dengan alat konvensional. Dengan ini, kitaran proses menjadi lebih cepat, tanpa mengorbankan kawalan kualiti.
Mengapa sistem ini berkesan di kilang pengeluaran:
Di kilang pengeluaran berskala besar, proses pembakaran poliimid perlu dilakukan dalam lingkungan suhu yang tertentu. Lampu ini mampu mencapai suhu yang ditetapkan dengan cepat, memendekkan masa proses, dan mengurangkan penggunaan tenaga. Anda akan mendapat hasil yang lebih baik tanpa perlu mengorbankan kawalan kualiti. Selain itu, sistem ini juga dapat digunakan bersama dengan peralatan lain yang ada, sambil memastikan ketepatan suhu yang tinggi.
Butiran praktikal:
Pemasangan lampu ini memerlukan penyesuaian yang tepat antara geometri chuck dan emisiviti permukaan belakang wafer. Jika penyesuaian ini tidak betul, akan timbul perbezaan suhu di bahagian tepi wafer. Lampu ini juga berfungsi paling baik apabila digunakan pada wafer yang bersih dan kering, serta dalam suasana yang terkawal. Anda memerlukan masa yang singkat untuk menyesuaikan kekuatan cahaya dan masa pendedahan yang diperlukan untuk formulasi poliimid tertentu. Setelah disesuaikan, prosesnya akan berjalan dengan lancar.